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	【名稱】: 《蒸鍍、真空蒸鍍技術(shù)工藝配方及設(shè)備專利大全》
	【日期】: 2011
	【冊數(shù) 】: 全套
	【原價】: 280
	【現(xiàn) 價】: 240
	【上傳日期】: 2011年5月27日10點(diǎn)59分57秒

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01、真空蒸鍍機(jī)臺的蒸鍍源裝置及其蒸鍍方法
02、真空蒸鍍設(shè)備及其防附著結(jié)構(gòu)
03、蒸鍍裝置
04、SiO蒸鍍材料、原料用Si粉末及SiO蒸鍍材料的制造方法
05、SiO蒸鍍材料、SiO原料用Si粉末及SiO的制造方法
06、蒸鍍設(shè)備及其蒸鍍源更換方法
07、MgO蒸鍍材料
08、有機(jī)材料用蒸發(fā)源及有機(jī)蒸鍍裝置
09、蒸發(fā)裝置、蒸鍍裝置以及蒸鍍裝置中的蒸發(fā)裝置的切換方法
10、電鍍或者蒸鍍處理用凹凸粒子
11、用于蒸鍍設(shè)備的干冰洗凈法
12、真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法
13、MgO蒸鍍材料
14、蒸鍍設(shè)備及蒸鍍方法
15、蒸發(fā)源和具備蒸發(fā)源的蒸鍍裝置
16、蒸鍍二氧化硅保護(hù)膜方法
17、真空蒸鍍制備鋁－銅－鐵準(zhǔn)晶涂層的方法
18、校正系統(tǒng)、垂直型盤移送裝置和具有該裝置的蒸鍍裝置
19、利用部分蒸鍍可精細(xì)地轉(zhuǎn)印花紋的轉(zhuǎn)印膜
20、使用等離子CVD法形成的化學(xué)蒸鍍膜及其形成方法
21、一種有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法
22、偏轉(zhuǎn)磁場型真空電弧蒸鍍裝置
23、蒸發(fā)源組件及使用該組件的蒸鍍裝置
24、多真空蒸鍍裝置及其控制方法
25、屏蔽、應(yīng)用其的蒸鍍裝置和顯示面板制造方法
26、一種蒸鍍模板及其應(yīng)用
27、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源
28、物理氣相沉積蒸鍍機(jī)的被鍍物固持裝置
29、真空蒸鍍裝置和電光裝置的制造方法
30、化學(xué)蒸鍍裝置
31、物理氣相沉積蒸鍍機(jī)的磁性過濾裝置
32、單位層后處理催化化學(xué)蒸鍍裝置及其成膜方法
33、自潔式催化化學(xué)蒸鍍裝置及其清潔方法
34、真空蒸鍍機(jī)
35、利用蒸鍍夾具的手機(jī)外殼EMI層真空蒸鍍方法及夾具
36、高溫超導(dǎo)薄膜雙面蒸鍍技術(shù)及其裝置
37、有機(jī)EL元件制造用蒸鍍裝置的室內(nèi)的清洗方法
38、真空蒸鍍機(jī)
39、α型晶體結(jié)構(gòu)為主體的氧化鋁被膜制造方法、α型晶體結(jié)構(gòu)為主體的氧化鋁被膜和含該被膜的疊層被膜、以該被膜......
40、蒸鍍工序用噴嘴蒸發(fā)源
41、蒸鍍裝置及利用該蒸鍍裝置的蒸鍍方法
42、金屬蒸鍍薄膜電容器
43、蒸發(fā)源和采用該蒸發(fā)源的蒸鍍裝置
44、金屬氧化物被膜的成膜方法及蒸鍍裝置
45、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源
46、多晶MgO蒸鍍材料
47、真空蒸鍍裝置及蒸鍍薄膜制造方法
48、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑制品以及表面金屬化處理的燈罩
49、有機(jī)物蒸鍍裝置
50、供金屬蒸鍍的高光澤紙的制作方法
51、有機(jī)物蒸鍍裝置
52、等離子體顯示器之前基板的制造方法、蒸鍍工藝與蒸鍍裝置
53、蒸鍍遮罩
54、CVD用原料化合物及其制造方法及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍法
55、掩模蒸鍍方法及裝置、掩模及其制造方法、顯示板制造裝置
56、蒸鍍裝置
57、改進(jìn)型蒸鍍方法
58、用于制作有機(jī)電致發(fā)光顯示器的蒸鍍裝置
59、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑制品以及表面金屬化處理的燈罩
60、蒸鍍膜
61、真空蒸鍍用掩模及用其制造的有機(jī)電致發(fā)光顯示器面板
62、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法
63、有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍機(jī)臺
64、真空蒸鍍裝置
65、蒸鍍用掩模及其制造方法
66、蒸鍍掩模及制法、顯示裝置及制法以及具有其的電子機(jī)器
67、真空蒸鍍裝置、真空蒸鍍方法及獲得的有機(jī)電子熒光元件
68、一種利用強(qiáng)電場的真空熱蒸鍍成膜方法
69、除塵裝置、蒸鍍機(jī)臺及以其進(jìn)行清潔遮罩的方法
70、一種利用強(qiáng)電場的真空熱蒸鍍成膜方法
71、氧化鎂蒸鍍材料
72、MgO蒸鍍材料及其制造方法
73、卷繞式真空蒸鍍方法及卷繞式真空蒸鍍裝置
74、免蒸鍍的硬式帶式自動焊接封裝方法
75、鋅蒸鍍薄膜及金屬化薄膜電容器
76、金屬蒸鍍薄膜、其制造方法及使用它的電容器
77、蒸鍍裝置
78、真空蒸鍍設(shè)備用的蒸鍍裝置
79、蒸鍍裝置
80、陰極電弧蒸鍍方式淀積類金剛石碳膜的制備方法
81、層壓薄膜和使用它的蒸鍍薄膜
82、有機(jī)泡沫導(dǎo)電化處理的真空蒸鍍法及設(shè)備
83、用于真空蒸鍍和有機(jī)電熒光器件的設(shè)備和方法
84、彩色陰極射線管及其制造方法和蒸鍍用復(fù)合材料
85、用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法
86、蒸鍍用坩堝
87、等離子體蒸鍍設(shè)備防止凝縮裝置
88、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法
89、帶有磁鐵的等離子體的連續(xù)蒸鍍裝置
90、真空蒸鍍用多面成形掩模裝置
91、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源
92、蒸鍍方法及蒸鍍裝置
93、真空蒸鍍裝置及用該裝置制造有機(jī)EL顯示面板的方法
94、電激發(fā)光元件的制造方法及蒸鍍遮罩
95、電激發(fā)光顯示板的制造方法及蒸鍍遮罩
96、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝備的電極固定裝置
97、一種用于半導(dǎo)體激光器腔面蒸鍍的非接觸固定方式的夾具
98、真空電弧蒸鍍方法及裝置
99、制作電致發(fā)光顯示器的、使用電磁鐵的蒸鍍裝置及采用此裝置的蒸鍍方法
100、真空蒸鍍聚合裝置及采用該裝置的有機(jī)被膜的形成方法
101、CVD用原料化合物及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法
102、真空蒸鍍用掩模和用該掩模制造的有機(jī)電致發(fā)光顯示面板
103、CVD用原料化合物以及釕或釕化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法
104、蒸鍍方法及顯示裝置的制造方法
105、用于生產(chǎn)中折射率光學(xué)涂層的蒸鍍用材料
106、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法、制造原料和制造裝置
107、一種用于熱浸涂鍍及真空蒸鍍的兩用連續(xù)涂鍍設(shè)備
108、蒸鍍用的氧化釔組成物及反射防止膜的制造方法
109、用于生產(chǎn)高折射率光學(xué)涂層的蒸鍍用材料
110、一種化合物半導(dǎo)體銻化銦薄膜真空蒸鍍方法
111、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設(shè)備
112、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的方法
113、蒸鍍方法及顯示裝置的制造方法

蒸鍍、真空蒸鍍技術(shù)工藝配方及設(shè)備專利大全

蒸鍍、真空蒸鍍技術(shù)工藝配方

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